MOSFET的操作原理
核心：金属—氧化层—半导体电容
当一个电压施加在MOS电容的两端时，半导体的电荷分布也会跟著改变。考虑一个P型的半导体（空穴浓度为NA）形成的MOS电容，当一个正的电压VGB施加在栅极与基极端（如图）时，空穴的浓度会减少，电子的浓度会增加。当VGB够强时，接近栅极端的电子浓度会超过空穴。这个在P型半导体中，电子浓度（带负电荷）超过空穴（带正电荷）浓度的区域，便是所谓的反转层（inversion layer）。
MOS电容的特性决定MOSFET的操作特性，但一个完整的MOSFET结构还需一个提供多数载流子（majority carrier）的源极以及接受这些多数载流子的漏极。
